维普资讯 http://www.cqvip.com 第24卷第8期 2007年8月 印染助剂 TEX 兀I AUXILIARIES Vo1.24 No.8 Aug.2007 纳米锑掺杂氧化锡导电粉体的快速制备及表征 王保,孙莎莎,郑敏 (苏州大学材料工程学院,江苏苏州215021) 摘 要:纳米锑掺杂氧化锡(ATo)以其灵敏度高、色浅透明、耐高温耐腐蚀、机械稳定性好等特点在气敏元件、导电抗静电领 域、催化领域等得到了广泛的应用.本实验在共沉淀法的基础上采用特殊的组合添加剂,前9区体不需要干燥直接煅烧20 min就可以得 到各项性能良好的ATO粉体,采用粒度分析仪、x衍射仪(XRD)、红外光谱仪、透射电镜(TEM)、微欧测量计等对最终粉体的性能进行 了表征.结果表明:相比传统共沉淀法,该法具有快速、高效的特点,在合适添加剂作用下所制备的纳米ATO粉体一次粒径为55 nm,体 积电阻率为75.93 n・cm,晶化完整,纯度高. 关键词:纳米;锑掺杂二氧化锡;添/30 ̄U;导电 中图分类号:TB383 文献标识码:A 文章编号:1004—0439(2007)08—0016—03 on and characterization of nanocrystalline ntimony-doped tin dioxide conductive powders aWANG Bao,SUN Sha—sha,ZHENG Min (Coil.Mater.Eng.,Suzhou Univ.,Suzhou 2 1 502 1,China) Abstract:Nanometric Sb—doped SnO2(ATO)is widely used in gas/humidity sensors,conductive and anti— static fields,catalytic field etc.for their properties such as high sensitivity,Iight color,transparency,high—temp. and corrosion-resistances and mechanicaI stability.An additive of speciaI formulation was used in the CO—Dre— cipitation process where the precursors were directly calcinated for 20 min without drying to give ATO powders having all the perfect performances.The final powders were characterized with granularity tester,X—ray diffrac— tometer(XRD),IR spectrograph,transmission electron microscope(TEM)and microhmmeter.The results showed that this process,as compared to traditional methods,was characterized by rapidity and high efficiency,and the nm ATO powders produced with a suitable additive had a particle size of ca 55 nm.volume resistance of 75.93 n・cm.perfect crystallization and high purly.t Key words:nanometry;antimony-doped tin dioxide;additive;conductivity 随着电子工业及相关高新技术产业的高速发展, 速发展,国内在这方面的研究也相当活跃.其中最具 对导电粉的需求量13益增加,同时对导电粉的性能也 应用前景的是纳米锑掺杂二氧化锡(ATO),由于具有 优异的导电性和透明性且不受气候和使用环境的限 制,具有广阔的应用前景,目前已成为该领域的热门 研究课题. 提出了更高的要求.传统的导电粉f包括金属、炭黑、 有机高分子物等1因各自存在难以克服的缺点而不能 满足市场需求.f1・2】因此,开发新的高性价比导电粉是近 年来研究的重点.金属氧化物导电粉末尤其是超细粉 末(如掺锑氧化锡、氧化锌和氧化钛等)具有半导体特 性,由于其独特的稳定性和广泛的应用领域而得到迅 收稿日期:2006—12—30 制备超细ATO导电粉末的方法有多种,主要包括 固相法、溶胶一凝胶法、喷雾热解法、金属醇盐水解 法、化学共沉淀法、水热法、网络聚合法等.[3-51采用固 作者简介:王通讯作者:郑保(1983一)'男,陕西西安人,本科在读,主要从事印染助剂开发  ̄(t970一),女,副教授,博士, 维普资讯 http://www.cqvip.com 8期 王保等:纳米锑掺杂氧化锡是皇 重 鱼垦塞 相法时合成温度高,粉体掺杂不均匀,粒度大并且容 易引入杂质,所制粉体的电阻高,达不到使用要求,因 而在ATO纳米粉体的合成中很少采用.采用溶胶一凝 胶法由于要以金属有机醇盐为原料,因而成本比较高. 化学共沉淀法由于具备制备工艺简单、成本低、易于 控制、合成周期短等优点,成为研究最多的制备方法. 但目前的化学共沉淀法不适合制备高性能的纳米 ATO粉体,其主要缺点:(1)由于Sb, 和Sn 的水解不同 步,最终制得的ATO粉末不能实现真正意义上的均匀 掺杂;(2)氯离子腐蚀性大,难以洗涤干净,需要反复10 次以上的洗涤;(3)后续高温长时间处理容易导致粉体 团聚.因此,现有合成方法很难得到具有良好分散性 能的ATO纳米粉体.针对上述合成ATO纳米导电粉 体的问题,张建荣等人提出一种燃烧合成法合成纳米 ATO,利用燃烧过程中释放的大量气体来抑制颗粒之 间的团聚,得到了粒度较小的纳米颗粒[61,但该合成法 与常规共沉淀法相似,只是添加了柠檬酸作为燃料,合 成工艺复杂,时间较长,燃烧过程中释放大量烟雾,劳 动保护程度比较差. 本实验在共沉淀法的基础上通过后处理过程中 添加剂的选择和工艺参数的控制合成出粒度小、分布 均匀、导电性好的纳米ATO粉体。 l实验 1.1药品与仪器 药品:四氯化锡、三氯化锑、乙醇均为分析纯,酒 石酸(化学纯),组合添加剂M(各种燃料混合物,自配). 仪器:PHS一25型酸度计(上海精密科学仪器有限 公司),AS20500ADT型超声波清洗器(天津奥德赛恩有 限公司),JB90一S型数显电动搅拌器(上海标本模型厂), 5055型马弗炉(上海东风仪器厂),Zetasizer 3000 HS型 粒度仪 国Malvern公司),D/Max一]lIB型x衍射仪(日 本理学公司),Perkin—Elmer 683型红外光谱仪,日立H一 600型透射电子显微镜. 1.2合成 以SbC13和SnCI4・5H O为原料,按一定量比(4.5: 100)将它们溶于无水乙醇中形成透明溶液,为了避免 SbC1,水解,按照三氯化锑:配位剂为1:1(量比)的比例 加入配位剂(酒石酸),采用NaOH作为沉淀剂滴加到 该透明溶液中,在50℃、pH值4条件下持续搅拌60 min至反应完全,经沉淀、过滤、水洗、醇洗,得到反应 前驱物.在前驱物中加入一定量组合添加剂Mf质量 比1:1),磨成糊状,在马弗炉中于600 oC下煅烧20 30 min 无需研磨即得浅蓝色纳米ATO粉体.无添加剂的 制备过程除了不加添加剂外,煅烧时间有所不同. 1.3性能测试 采用粒度仪、透射电子显微镜检测ATO粒子的 粒径分布和形貌;采用x衍射仪进行晶相分析,衍射 靶为CuKc*(h=0.154 18 nm),管电压为40 kv,管电流为 100 mA.采用红外光谱仪分析粉体化学组成,波长范 围为4 000~4 00 em-1,样品用KBr压片法测定,分辨率 为4 cm ;电阻率:称取一定质量导电粉末放人压片模 具中,加压(24 MPa)将其压紧,然后再用两个铜片压在 两端,用微欧计测量压饼的电阻值,用游标卡尺测量 压饼高度.由下式求得电阻率 =尺・S/H,其中P为体积 电阻率,Q・cm;R为电阻值,Q;s为导电粉末样品柱的 横截面积,cm ;H为导电粉末样品柱的高度,cm.在测量 过程中尽量保持导电粉末的质量和高度一定. 2结果与讨论 2.1 ATO粉体的X衍射 从图1中可以看出,无添加剂时,600 oC下煅烧60 min后除了3个主衍射峰(110、101、211)外,其他的峰 (200、220、310、301)也显示出来,但是强度较低(图la). 煅烧120 min后各峰都显示出来,强度较高(图1b),说 明在无添加剂时需要600 oC下煅烧120 min才能使 氧化锡完全晶化,这和文献报道一致.[41而有添加剂M 后,600 oC下煅烧20 min后各峰(主衍射峰和弱衍射峰1 已明显显示出来(图1c),峰强度较高,接近于无添加剂 时煅烧120 min的峰强,但峰形稍宽,这是由于晶粒尺 寸变小引起的X射线衍射线宽化.在本实验研究的掺 杂条件下,样品的XRD图谱上除了四方相SnO 的衍 射峰外,没有其他物质的衍射峰存在,因此,锑的掺人 没有产生新的物相,说明所有的锑都进入了二氧化锡 的晶格,表明采用该法可使锡锑很好地复合掺杂. : 呈喜 a §吾 ^ ^ g (a) 人八,、 八 一. === 20 3O 50 70 90 20/(。) a一无添加剂60 min;b一无添加剂120 min;c一有添加剂20 min 图1 ATO粉体的X衍射 2.2 ATO粉体的红外光谱 维普资讯 http://www.cqvip.com 18 印染助剂 从图2可以看出,无论有无添加剂,产品的红外 射电镜测试的是粒子的一次粒径,而粒度分析仪测的 是粒子的二次粒径,这也说明水分散递质中粉体呈现 软团聚. 吸收光谱基本一致,光谱中可以看到3个明显的吸收 峰:在627.82 cm 处的吸收峰是sn—O的伸缩振动峰, 在3 455.88 cm 和1 640.27 cm 处的吸收峰是粉体 中吸附水的伸缩振动峰,1 384.33 cm 为表面吸附 CO 的吸收峰,有添加剂时这个峰较明显,说明有添加 剂时制备的ATO比表面积大,对CO:的吸附作用增强. } ,、n L・__L・__‘-__■ ‘. 喜 1 10 1001 00010000 口 10一~ . 一. l 10 1一 00l 000l一 0000 粒径/nm 在红外吸收光谱中没有发现有机物的吸收峰,说明酒 有添加剂 石酸根已经完全被氧化. 4 U【 3 0OO 2 000 l 000 5Uo 波数/cm a一无添加剂.b一有添加剂 图2纳米ATO粉末的红外吸收光谱图 2.3 ATO粉体的透射电镜 从图3可以看出,有添加剂时制备的粉体尺寸小, 粒径约55 am,无明显团聚现象,而无添加剂时粉体有 明显的团聚.这可能是因为添加剂在煅烧过程中释放 的气体具有分散和解聚作用.另外,添加剂还能阻止 生成的粉体在高温下团聚或晶体生长,从而保证了粉 体尺寸的稳定性和均匀性. 餐 尢添加剂 有添加剂 图3 ATO粉体的透射电镜图(放大50 000倍) 2.4 ATO粉体的粒度表征 从图4可以看出,无添加剂时制备的ATO粉体平 均粒度为738.8 am,第一个峰的平均粒径为600 nm, 体积分数为26%,第二个峰的平均粒径为2 168 am,体 积分数为73%;有添加剂时制备的ATO粉体平均粒度 为254.8 am,第一个峰的平均粒径为285.7 am,体积分 数为79%,第二个峰的平均粒径为541.28 am,体积分 数为20%.这说明添加剂具有防止粉体团聚的作用,原 因是添加剂在加热过程中释放的气体具有分散粉体 的作用.因此,有添加剂时制备的ATO粉体尺寸比较 小而且均匀.粒度分析仪所测粒度与透射电镜所测粒 度大小不同,主要是因为仪器测试原理不同而造成,透 图4 ATO粉体的粒度分布图 2。5 ATO粉体的体积电阻率 从表1可以看出,不同制备条件对粉体电阻率有 一定影响.有添加剂时,热处理20 min就能获得较小 的电阻率,这说明添加剂有阻止团聚、促进锑均匀掺 杂的作用,提高了粉体的导电性能.另外,粉体尺寸小 而且均匀也是其导电性好的原因之一. 表1 不同条件下制备的粉体体积电阻率 制备条件 体积电阻率/n・cm 无添加剂,600 oC,120 min l29,42 有添加剂,600 oC,20 min 75.93 有添加剂,600℃,30 min 72.55 3结论 3.1在共沉淀法的基础上通过热处理中添加剂的选 择和工艺参数的控制合成出粒度小、分布均匀、体积 电阻率小的纳米ATO粉体. 3.2添加剂有效控制了热处理过程中粉体的团聚, 促进了Sb +转化为Sb“,提高了粉体的导电性能. 3.3该法具有操作简单、工艺参数易控、热处理时间 短(约2O~30 min)、无需研磨等优点,且不需要大量盐 酸.所制粉体经过合适的分散处理可用于浅色纺织品 抗静电整理,为浅色纺织品抗静电剂增添了新品种. 参考文献: …1 秦长勇,罗美芳,古宏晨,等.制备工艺对ATO超细粉体导电性能的 影响【J].华东理工大学学报,2001,27(6):261—262. 【2】刘小珍.掺锑和稀土的氧化锡的复合导电粉的制备方法【P1.中国 专利:CN 200 410 053 277。2004—07—30. 【3】Yang J G,Tang M T,Yang S H,et a1.Conducting mechanism and theory. conductivity of antimony doped tin oxideIJ].Micronanoelec—ironic Tec. hnology,2004,4l(4):l8—20. 【4】张建荣,顾达,杨云霞.湿化学法制备纳米ATO导电粉IJ1.功能材 料,2002.33(5):300—301. 【5】李青山,张金朝,宋鹂,等.锑掺杂浓度对于二氧化锡纳米微粉的 影"N[JI.无机材料学报,2002,17(6):1 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