专利名称：一种修复剂及其修复方法和制备光电薄膜的方法专利类型：发明专利发明人：不公告发明人申请号：CN201910508164.8申请日：20190612公开号：CN111435705A公开日：20200721
摘要：本发明涉及一种修复剂，包括为咪唑盐类离子液体、吡啶盐类离子液体、季铵盐类离子液体、季鏻盐类离子液体、吡咯烷盐类离子液体、哌啶盐类离子液体、功能化离子液体、与碘离子通过氢键络合的有机物、二茂铁类有机物、金属酞菁化合物、金属乙酰丙酮化合物、有机金属、卤键化合物以及有机硼化物中的至少一种。本发明还公开一种使用该修复剂制备光电薄膜的方法。本发明将修复剂沉积在光电薄膜与其接触的界面材料之间，为修复剂与光电薄膜材料提供了一个均匀稳定的反应环境，可在制备过程中控制光电薄膜的晶体生长，极大地改善了光电薄膜的稳定性。
申请人：杭州纤纳光电科技有限公司
地址：311121 浙江省杭州市余杭区仓前街道龙潭路7号B幢209室
国籍：CN
代理机构：杭州奥创知识产权代理有限公司
代理人：杨文华
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