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电化学-激光掩模聚焦微刻蚀加工方法及装置[发明专利]

来源:个人技术集锦
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:电化学-激光掩模聚焦微刻蚀加工方法及装置专利类型:发明专利

发明人:张朝阳,张永康,鲁金忠申请号:CN200810019759.9申请日:20080314公开号:CN101249580A公开日:20080827

摘要:本发明涉及一种电化学-激光掩模聚焦微刻蚀加工方法及装置,属于制造技术的微细加工领域。具体为:激光器发出的激光束经光束调制器的均匀化调制和扩束处理后通过有雕空图形的掩模板,再利用成像聚焦镜使掩模板上的图形微缩,并透过工件上方的导电玻璃成像在工件表面。导电玻璃与工件之间有钝化性电解液,电化学加工电源的正极接工件,电源负极接导电玻璃。加工过程中,高能量密度的激光束在电解液和工件之间产生冲击作用破坏工件表面加工区域的钝化膜,利用电化学反应去除钝化膜下的材料,实现微细结构的刻蚀加工。本发明能够有效地提高复杂图形的加工效率以及加工的微细程度和加工精度。

申请人:江苏大学

地址:212013 江苏省镇江市学府路301号江苏大学内

国籍:CN

代理机构:南京知识律师事务所

代理人:汪旭东

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