专利名称：化学增强型光刻胶组合物专利类型：发明专利
发明人：高田佳幸,吉田勋,中西弘俊申请号：CN200610162068.5申请日：20030909公开号：CN1963667A公开日：20070516
摘要：一种化学增强型正光刻胶组合物，它含有(A)分子式(VIb)的化合物：(B)一种树脂，该树脂含有对酸不稳定的基团的结构单元，和它本身不溶或微溶于碱性水溶液，但通过酸的作用可变得溶于碱性水溶液，和(C)分子式(I)的产酸剂。
申请人：住友化学工业株式会社
地址：日本大阪市中央区北浜4丁目5番33号
国籍：JP
代理机构：北京集佳知识产权代理有限公司
代理人：逯长明
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