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一种微显示器件及其像素定义层的制程方法[发明专利]

来源:个人技术集锦
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:一种微显示器件及其像素定义层的制程方法专利类型:发明专利发明人:曹贺

申请号:CN202011371545.5申请日:20201130公开号:CN112490125A公开日:20210312

摘要:本发明公开了一种微显示器件及其像素定义层的制程方法,包括:采用气相沉积法对硅基Micro OLED微显示器件的晶圆进行双层沉积得到包含像素定义层的基板,其中,像素定义层被配置为SiO层和SiN层;对基板的晶圆进行黄光工艺;以及对完成黄光工艺的基板上的像素定义层的两侧采用一道刻蚀进行干法刻蚀,以使得像素定义层上两侧的角度处于预设角度阈值范围内。该硅基MicroOLED微显示器件像素定义层的制程方法克服了现有技术中阴极较薄在爬坡时容易断裂的问题,降低了阴极断裂的风险。

申请人:安徽熙泰智能科技有限公司

地址:241000 安徽省芜湖市长江大桥综合经济开发区高安街道佛山路1号辰泓达产业园3楼

国籍:CN

代理机构:北京恒泰铭睿知识产权代理有限公司

代理人:杨昊

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