专利名称：冲击吸收结构专利类型：发明专利
发明人：M·J·毛雷尔,E·托克利诺,G·D·沃格尔,L·P·卡塔卡,P·S·
谢姆比卡,S·韦卢萨迈
申请号：CN200580007821.7申请日：20050310公开号：CN1942345A公开日：20070404
摘要：本发明包括一个制造物品，它具有一个带有多个皱折的层，以形成能量吸收器结构，每一个皱折具有一个底面和两个将所述底面与基座层连接的壁，每一个皱折的长度比所述皱折的最宽的宽度长。本发明还包括带有多层能量吸收器的能量吸收结构，所述吸收器具有一个带有多个表面部分的层和带有多个第二表面部分的第二层，其中一个层的表面部分套装在另一个层的表面部分内，使得基座层互相邻近。本发明还包括一个步骤的制造能量的吸收器的方法，所述方法包括在一个步骤中形成两个层的材料。另外，本发明包括吸收冲击能量方法，所述方法包括通过在一对基座层上的表面部分之间的摩擦产生热。
申请人：陶氏环球技术公司
地址：美国密歇根州
国籍：US
代理机构：北京纪凯知识产权代理有限公司
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