专利名称：具有改良的处理空间密封的基板处理腔室专利类型：发明专利
发明人：伊利亚·拉维特斯凯,基思·A·米勒,约翰·马佐科申请号：CN201880060246.4申请日：20180918公开号：CN111108228A公开日：20200505
摘要：本文提供处理腔室的实施方式。在一些实施方式中，一种处理腔室包括：腔室壁，腔室壁限定处理腔室内的内部空间；基板支撑件，基板支撑件设置在内部空间中，基板支撑件具有支撑表面以支撑基板，其中内部空间包含处理空间和非处理空间，处理空间设置在支撑表面上方，非处理空间至少部分地设置在支撑表面下方；气体供应气室，气体供应气室经由设置在支撑表面上方的气体供应通道而流体地耦接到处理空间；泵送气室，泵送气室经由设置在支撑表面上方的排气通道而流体地耦接到处理空间；和密封设备，密封设备经配置当基板支撑件处于处理位置时，将处理空间与非处理空间流体地隔离，其中当基板支撑件处于非处理位置时，处理空间和非处理空间流体地耦接。
申请人：应用材料公司
地址：美国加利福尼亚州
国籍：US
代理机构：北京律诚同业知识产权代理有限公司
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