专利名称：一种磁控溅射大型镀膜真空腔专利类型：实用新型专利发明人：刘晓萌,左敏
申请号：CN201520395011.4申请日：20150609公开号：CN204874722U公开日：20151216
摘要：本实用新型公开了一种磁控溅射大型镀膜真空腔，包括腔室，顶板和底板，所述腔室主体为圆环柱体，设有上顶板和底板与圆环柱体密封固定；所述底板上设有与圆环柱体的圆同心的二个圆形槽，所述顶板上设有与底板上二个圆槽相同直径的两个圆形固定槽，两个圆形固定槽中间设有圆形沟槽；圆形沟槽上支承1-5个在圆形沟槽电动滑轮，每个电动滑轮均设有一个靶材固定点。本实用新型的优点在于：可以将两张面积较大的待镀基板卷绕在圆环柱体内两个圆形固定槽中，实现同时镀两张大面积膜的目的。圆环柱体空腔相较现有的圆柱体空腔和平面空腔更容易实现真空密封状态，且密封持久性强。
申请人：无锡爱尔华精机有限公司
地址：214161 江苏省无锡市滨湖区胡埭工业园金桂路7号
国籍：CN
代理机构：南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙)
代理人：陈建和
更多信息请下载全文后查看
因篇幅问题不能全部显示，请点此查看更多更全内容