专利名称：一种等离子清洗装置专利类型：发明专利
发明人：徐俊成,尹影,江伟,庞浩申请号：CN202010162985.3申请日：20200310公开号：CN111299253A公开日：20200619
摘要：本发明涉及集成电路制造技术领域，具体涉及一种等离子清洗装置。其包括清洗腔室，和与所述清洗腔室连通的气源装置，所述气源装置向所述清洗腔室内通入洁净气体，使所述清洗腔室处于正压状态，避免外部环境污染物进入到所述清洗腔室内，实现清洗腔室内微环境控制，保持等离子工艺腔室内的洁净度等级，达到避免清洗件等离子清洗后二次污染，提高等离子清洗工艺效果。
申请人：北京烁科精微电子装备有限公司
地址：100176 北京市大兴区经济技术开发区泰河三街1号
国籍：CN
代理机构：北京三聚阳光知识产权代理有限公司
代理人：刘林涛
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