专利名称：一种新型的干法刻蚀装置专利类型：实用新型专利发明人：尤春,华卫群,吴洪强申请号：CN201621444688.3申请日：20161227公开号：CN206312872U公开日：20170707
摘要：本实用新型公开了一种新型的干法刻蚀装置，包括设备仓、刻蚀装置本体和反应仓，所述设备仓的内部安装有旋转电机，旋转电机通过旋转轴与晶元载体啮合连接，所述晶元载体的内部安装有电热圈，所述反应仓的顶部安装有上电极板，所述上电极板的底部安装有等离子体，所述反应仓通过出风口与第一出风管和第二出风管连接，所述第一出风管和第二出风管通过引风电机与出风管连接。本实用新型采用上电极板和下电极板对内部等离子进行牵引，对放置在晶元载体上的待腐蚀装置进行干法刻蚀，在干法刻蚀的过程中电热圈工作，加快刻蚀速度，旋转电机工作，带动晶元载体旋转，保证等离子均匀的铺设在待腐蚀装置上，保证待腐蚀装置的表面腐蚀均匀，稳定。
申请人：无锡中微掩模电子有限公司
地址：214135 江苏省无锡市新区菱湖大道202号
国籍：CN
代理机构：常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙)
代理人：康潇
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