专利名称：刻蚀用清洗液以及使用其的图案形成方法专利类型：发明专利
发明人：松浦裕里子,露木纱罗,能谷刚申请号：CN201480025048.6申请日：20140501公开号：CN105190445A公开日：20151223
摘要：通过使用包含由下述式(I)表示的非离子类表面活性剂和水的刻蚀用清洗液，对通过将感光性树脂进行曝光、显影而获得的微细抗蚀图案进行清洗，从而形成没有图案倒塌、图案缺陷、线宽偏差、图案熔化的抗蚀图案。式中，R、R可以相同也可以不同，表示氢原子或者甲基，R、R可以相同也可以不同，表示氢原子、甲基或者乙基，R表示包含双键或三键的碳原子数2～5的烃基或者亚苯基，R、R可以相同也可以不同，表示氢原子或者甲基。
申请人：AZ电子材料(卢森堡)有限公司
地址：卢森堡卢森堡
国籍：LU
代理机构：北京三幸商标专利事务所(普通合伙)
代理人：刘淼
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