专利名称：一种连续真空镀膜装置专利类型：发明专利发明人：胡均松
申请号：CN202010358393.9申请日：20200429公开号：CN111411327A公开日：20200714
摘要：本发明提供了一种连续真空镀膜装置，属于真空镀膜技术领域，包括镀膜室以及设置在所述镀膜室内底部的蒸发室，所述蒸发室内部设置有加热板，所述镀膜室上部通过支撑筒连接有驱动箱体，所述支撑筒内部设置有镀膜通道，所述驱动箱体上部开设有取放口，所述取放口处设置有密封门，驱动箱体内部对称设置有两组驱动组件，所述驱动组件包括相连相对设置的驱动带轮。本发明实施例中，通过将夹持组件对应安装在两组传动带内侧，并将工件安装在两组夹持组件之间，利用驱动组件带动两组传动带同步运行，从而将工件分别带动至镀膜通道上方，配合摩擦组件带动工件进行转动，实现工件的全面连续镀膜，具有地膜效果好以及效率高的优点。
申请人：胡均松
地址：435400 湖北省黄冈市武穴市梅川镇鲁全二村三组17号
国籍：CN
代理机构：北京艾皮专利代理有限公司
代理人：郭童瑜
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