专利名称：一种高纯镓的脱氧及杂质去除装置专利类型：实用新型专利
发明人：周晓霞,于洪国,焦雪梅,董娓,袁泽海,曲骏,赵静敏申请号：CN201920744359.8申请日：20190522公开号：CN210736954U公开日：20200612
摘要：本实用新型涉及一种高纯镓的脱氧及杂质去除装置，包括单侧开口的石英管、用于盛放待提纯镓的石英舟、真空法兰和两端均开口的两座可移动式高温加热炉，石英舟位于石英管内，真空法兰与石英管的开口固定连接，两座可移动式高温加热炉分别套于石英管的外部两端。本实用新型的高纯镓的脱氧及杂质去除装置，炉膛高温下使反应管内高纯镓的氧化物及部分挥发性杂质由固态转化为气态的形式挥发除去，从而避免高纯镓中的氧和其它杂质在砷化镓多晶合成时进入晶体内部，有效解决砷化镓单晶中氧及杂质的掺入，提高晶体电学性能。
申请人：有研光电新材料有限责任公司
地址：065001 河北省廊坊市廊坊开发区百合道4号
国籍：CN
代理机构：北京辰权知识产权代理有限公司
代理人：佟林松
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