专利名称：一种阵列基板及微全分析装置专利类型：发明专利
发明人：刘英明,董学,王海生,陈小川,丁小梁,王雷,李昌峰,顾
品超,张平,曹学友
申请号：CN201910002555.2申请日：20190102公开号：CN109659326A公开日：20190419
摘要：本发明公开了一种阵列基板及微全分析装置，该阵列基板包括：基板，位于基板上由数据线和栅线交叉限定的多个像素区域，以及位于像素区域内的驱动晶体管；驱动晶体管包括有源层图形，有源层图形的延伸方向与栅线呈第一预设角度，且在第一预设角度方向上有源层图形斜跨像素区域；驱动晶体管的源漏电极在第一预设角度方向上与有源层图形连接。通过将有源层图形的延伸方向与栅线呈第一预设角度进行设置，相比于将有源层的延伸方向与栅线平行设置可以增加有源层图形在延伸方向的长度，即增加了有源层图形的长宽比，并且占用像素区域的面积并未增大，从而实现在增加驱动晶体管的导通特性的同时有利于实现高像素设计。
申请人：京东方科技集团股份有限公司
地址：100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
国籍：CN
代理机构：北京同达信恒知识产权代理有限公司
代理人：郭润湘
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